本實用新型涉及一種惰性氣氛下真空高溫爐裝置,包括密封室、物料倉和放空系統(tǒng),密封室設有密封門。密封室內設有真空高溫爐、進料器、
真空泵、成品儲罐和惰性氣體控制器。真空高溫爐與進料器、真空泵和成品儲罐管路連接。密封室為全密閉結構,設有密封玻璃窗,密封室內填充惰性保護氣體,惰性氣體控制器控制惰性氣體的濃度和壓力。真空高溫爐為立式或臥式加熱爐,真空高溫爐的兩頭有密封蓋,外部為鋼殼結構,真空高溫爐的爐體內部砌筑耐火材料。物料倉通過輸送設備連接到進料器,真空泵與放空系統(tǒng)連接。本實用新型可在高溫和惰性氣體的保護下,用煤粉作還原劑還原生產冶金硅,避免設備和產品的氧化燒蝕,降低冶金硅的生產成本。
聲明:
“惰性氣氛下真空高溫爐裝置” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)