本發(fā)明公開了一種高性能含鎵鑄片磁體及其制備方法,該鑄片磁體的組份及重量百分含量為:Pr:6.0~9.0%、Nd:20.0~25.0%、B:0.5~1.5%、Al:0.05~0.3%、Cu:0.10~0.2%、Zr:0.1~0.2%、Ga:0.15~0.25%、Co:0.1~0.5%、余量用Fe補(bǔ)充。本發(fā)明的制備方法包括鑄片熔煉、氫粉碎、氣流磨粉碎、磁場取向成型、等靜壓、燒結(jié)。本發(fā)明一方面鑄片熔煉工藝使鑄片組織沒有α-Fe晶體存在,鑄片破碎更容易,縮短了生產(chǎn)周期;另一方面添加了鋯、鎵、鈷金屬元素增強(qiáng)磁性的同時增加了耐腐蝕性。
聲明:
“高性能含鎵鑄片磁體及其制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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