本文提供了板(1),其包括將要使用具有波長(λR3)的單色光子輻射(R3)沉積到靶材表面(51)上的
功能材料(2)。所述板包括基底(10),所述基底(10)具有被引導(dǎo)朝向靶材表面的第一表面(11)和接收單色光子輻射的第二表面(12)。第一表面(11)被圖案化為具有一個(gè)或多個(gè)凹陷區(qū)域(111),所述凹陷區(qū)域(111)具有介電涂層(4)并且填充有所述功能材料。介電涂層(4)包括一系列折射率交替的介電涂層子層(41,42,43)。與對(duì)于以45度角入射到介電涂層(4)的所述單色輻射(R3)的反射率相比,所述介電涂層(4)對(duì)于垂直于介電涂層(4)入射的所述單色輻射(R3)具有相對(duì)高的反射率。從而減輕了剪切力,而不需要高的對(duì)準(zhǔn)精度。本申請還提供了包括該板的沉積裝置和涉及該板的方法。
聲明:
“功能材料至靶材表面上的可控沉積” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)