本發(fā)明名稱為“透明導(dǎo)電膜的等離子體增強化學(xué)氣相沉積設(shè)備”,屬于光電
功能材料的規(guī)?;a(chǎn)設(shè)備。本發(fā)明為實施特殊金屬氧化物薄膜的制造技術(shù),著重解決大面積薄膜的性能優(yōu)良,厚度均勻及廢氣排放等問題。其特點在于設(shè)置了特殊的均壓噴口,用接地電極對射頻電極進行充分的屏蔽、安裝冷阱捕集反應(yīng)廢氣。本發(fā)明適用于多種氧化物薄膜的大面積制造。
聲明:
“透明導(dǎo)電膜的等離子體增強化學(xué)氣相沉積設(shè)備” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)