氧化物薄膜高溫生長用有機金屬化學氣相沉積設備,屬于氧化物薄膜材料制備技術領域,具體涉及一種在超高溫(大于1100°C)和氧氣氣氛條件下氧化物半導體及其它氧化物薄膜
功能材料生長的金屬有機物化學氣相沉積設備。其反應室由其由真空加熱腔、內旋轉系統(tǒng)、外旋轉系統(tǒng)、帶有水冷的U型法蘭固定裝置(1)、帶水冷的火炬型中空軸(2)、帶水冷的反應室側壁(5)、噴淋頭(6)和抽真空系統(tǒng)(18)組成;火炬型中空軸(2)分為炬體和炬把兩部分,其炬把穿過U型法蘭底座(1)。旋轉電機通過皮帶傳送帶動外旋轉系統(tǒng)繞U型法蘭底座(1)旋轉,從而帶動不銹鋼旋轉軸(7)及圓柱形石英支撐(10)和圓形石墨罩(12)繞真空加熱腔旋轉。
聲明:
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