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磁致伸縮多層膜直接磁性耦合制備方法

703   編輯:管理員   來源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-18 15:07:02
一種磁致伸縮多層膜直接磁性耦合制備方法,屬磁敏感功能材料技術(shù)領(lǐng)域。(1)拋光預(yù)處理襯底;其襯底為可溶于蒸餾水的可溶性立方結(jié)構(gòu)晶體;(2)利用高真空磁控濺射設(shè)備在襯底上依次濺射緩沖層、磁致伸縮復(fù)合層、保護(hù)層;上述磁致伸縮復(fù)合層為壓磁材料層和反鐵磁材料層交替沉積的人工周期多層膜結(jié)構(gòu),周期數(shù)為50~100,上述壓磁材料層厚度需小于其交換耦合長度,反鐵磁層厚度需大于其臨界厚度,在沉積磁致伸縮復(fù)合層時,施加50~500OE的平面誘導(dǎo)磁場;(3)沉積完成后進(jìn)行熱處理以消除內(nèi)應(yīng)力;(4)再將樣品浸入到蒸餾水中使多層膜與襯底剝離。本方法可用于設(shè)計制備具有近零場磁敏特性的磁致伸縮材料,方法簡單、效果好。
聲明:
“磁致伸縮多層膜直接磁性耦合制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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