一種多項(xiàng)式擬合的納米隨機(jī)表面光學(xué)特性快速預(yù)測(cè)算法。該方法以
電化學(xué)制備納米隨機(jī)表面為基礎(chǔ),以襯底材料和加工條件(反應(yīng)溫度、直流電壓、電解液種類和濃度以及加工時(shí)間)作為輸入,納米隨機(jī)表面的微觀形貌結(jié)構(gòu)參數(shù)和反射光譜為輸出組成一一對(duì)應(yīng)的數(shù)據(jù)庫(kù),構(gòu)建以輸入條件組合的多項(xiàng)式模型。該模型不但能預(yù)測(cè)納米隨機(jī)表面的微觀形貌結(jié)構(gòu)參數(shù),還可以預(yù)定納米隨機(jī)表面的微觀形貌結(jié)構(gòu)逆向求解輸入條件。本發(fā)明可以大大節(jié)省隨機(jī)納米
功能材料的設(shè)計(jì)成本、加工成本和測(cè)試成本,在緊湊型光譜儀、吸波材料、電磁隔離材料、仿生材料領(lǐng)域具有重要應(yīng)用價(jià)值。
聲明:
“多項(xiàng)式擬合的納米隨機(jī)表面光學(xué)特性快速預(yù)測(cè)算法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)