本發(fā)明提供一種不需要對(duì)圍堰實(shí)施表面處理(疏液化處理),由此簡(jiǎn)化了工序、提高了生產(chǎn)效率的膜圖案的形成方法、和由此獲得的膜圖案以及器件和電光學(xué)裝置等。該膜圖案的形成方法將功能液(X1)配置在基板(P)上來(lái)形成膜圖案。包括以下工序:在基板(P)上形成與膜圖案的形成區(qū)域?qū)?yīng)的圍堰(B);在由圍堰劃分的區(qū)域(34)配置功能液(X1);和對(duì)功能液(X1)實(shí)施固化處理而形成膜圖案。在形成圍堰(B)的工序中,首先涂敷聚硅氨烷液或聚硅氧烷液,接著對(duì)其進(jìn)行曝光、顯影,形成圖案,然后通過(guò)燒結(jié),形成在側(cè)鏈上具有疏水基,并將硅氧烷結(jié)合作為骨架的材質(zhì)的圍堰,作為功能液(X1),使用水系分散介質(zhì)或含有溶劑的液狀體。
聲明:
“膜圖案及形成方法、電子設(shè)備和有源矩陣基板的制造方法” 該技術(shù)專(zhuān)利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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