一種用于形成圖案化薄膜的原子層沉積工藝,包括提供基材,向基材上施加可光圖案化的沉積抑制劑材料,其中所述沉積抑制劑材料包括有機(jī)硅氧烷化合物;圖案化所述沉積抑制劑材料。所述薄膜基本上只沉積在基材上不具有沉積抑制劑材料的選區(qū)內(nèi)。
聲明:
“含硅氧烷的可光圖案化沉積抑制劑” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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