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陶瓷部件及包括該陶瓷部件的等離子體蝕刻裝置

859   編輯:管理員   來源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-18 16:52:16
實施方式涉及一種陶瓷部件及包括其的等離子體蝕刻裝置等。一實施方式涉及一種陶瓷部件,其為應(yīng)用于等離子體蝕刻裝置的陶瓷部件,上述陶瓷部件的特征在于,上述陶瓷部件包括復(fù)合材料以及與上述復(fù)合材料相接填充的基質(zhì),上述復(fù)合材料包括選自由碳化硼基材料和碳基材料中的一種,上述基質(zhì)包括碳化硼基材料,上述復(fù)合材料的碳化硼基材料在通過拉曼光譜學(xué)測定的拉曼位移光譜中,在481cm?1附近的峰的強度Ia與在534cm?1附近的峰的強度Ib之總和Iab和在270cm?1附近的峰的強度Ic與在320cm?1附近的峰的強度Id之總和Icd的比Iab/Icd為0.7至2.8,上述復(fù)合材料的碳基材料在通過拉曼光譜學(xué)測定的拉曼位移光譜中,G帶峰的強度Ie與D帶峰的強度If的比Ie/If為0.2至2。
聲明:
“陶瓷部件及包括該陶瓷部件的等離子體蝕刻裝置” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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