本發(fā)明涉及一種低溫剝離修飾
石墨烯及其制備方法,利用堿金屬在液氨中形成的氨合離子插入到石墨烯層間以剝離石墨得到片層較薄的石墨烯,氨合電子和修飾基團(tuán)在石墨烯片層缺陷位點(diǎn)反應(yīng)得到修飾石墨烯。與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明經(jīng)過(guò)形貌分析及結(jié)構(gòu)分析表明,所得的修飾石墨烯片層較薄,結(jié)構(gòu)較完整,在水中和NMP中分散都較好且穩(wěn)定。同時(shí),本發(fā)明所得的修飾石墨烯與金屬氧化物、過(guò)渡金屬二硫化物復(fù)合可以得到結(jié)構(gòu)穩(wěn)定的
復(fù)合材料。
聲明:
“低溫剝離修飾石墨烯及其制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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