本發(fā)明提供水溶性氮化硼量子點(diǎn)的一步制備方法。以六方氮化硼與三方氮化硼為原材料,分散在堿性溶液中,放入超聲波高溫高壓恒溫反應(yīng)釜中反應(yīng),一步制備羥基化氮化硼量子點(diǎn);將產(chǎn)物置于去離子水中透析,然后用液氮冷凍,置于冷凍干燥機(jī)中干燥,得到干燥的羥基化氮化硼量子點(diǎn)成品。本發(fā)明所述方法氮化硼片層的羥基化使片層的剝離效率與裂解效率大大增加,二維片層的剝離、羥基化、裂解同時進(jìn)行,具備制備簡單、成本低、易于工業(yè)化批量生產(chǎn)的特點(diǎn),制備的羥基化氮化硼量子點(diǎn)具有優(yōu)異的水溶性,可廣泛的應(yīng)用于制備
復(fù)合材料、介電器件、激光材料、質(zhì)子交換膜材料等領(lǐng)域。
聲明:
“水溶性氮化硼量子點(diǎn)的一步制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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