本發(fā)明屬于集成電路制造產(chǎn)業(yè)的配套原材料生產(chǎn)技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種碳硼烷含氟光引發(fā)劑及其制備方法和應(yīng)用。首先將碳硼烷,無水四氫呋喃,正丁基鋰的正己烷溶液,4?碘苯甲醚和高錳酸鉀的吡啶溶液在氮?dú)獗Wo(hù)裝置中反應(yīng)制得雙羧基碳硼烷;將雙羧基碳硼烷與含氟光引發(fā)劑在DMF中進(jìn)一步反應(yīng),在弱堿性縛酸劑的協(xié)助作用下,最終制得EUV光刻膠用碳硼烷含氟光引發(fā)劑。該光引發(fā)劑制備的光刻膠克服了傳統(tǒng)光刻膠儲(chǔ)存時(shí)間短、透光性差、分辨率低、殘留物難去除等問題,可進(jìn)一步提升光刻膠的使用性能,在
半導(dǎo)體材料、人工智能、5G手機(jī)等領(lǐng)域有巨大潛力,應(yīng)用前景廣闊。
聲明:
“碳硼烷含氟光引發(fā)劑及其制備方法和應(yīng)用” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)