本發(fā)明公開了粒子的均質(zhì)膜涂層。將均質(zhì)膜涂層施加至組件的組成粒子的方法包括將靶元件設置在濺射室中。該方法還包括將容器布置在濺射室中。該方法另外包括將組成粒子布置在容器上。該方法還包括通過高能粒子轟擊靶元件以便從靶元件噴射材料并將該材料沉積到組成粒子上。該方法進一步包括在轟擊過程中攪動容器以便將材料作為均質(zhì)膜涂層施加至組成粒子。該方法可用于將均質(zhì)薄膜涂層施加至用于鋰?硫電池中的硫陰極的硫灌注組成粒子。
聲明:
“粒子的均質(zhì)膜涂層” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
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