本發(fā)明公開了一種鉀摻雜介孔g-C3N4光催化材料的制備方法,屬于光催化材料技術(shù)領(lǐng)域。該方法包括如下步驟:將三聚氰胺和KI充分研磨后平鋪于坩堝底部,將SBA-15均勻的分散在三聚氰胺和KI混合物的上面,然后將坩堝加蓋后置于馬弗爐內(nèi)進(jìn)行煅燒,產(chǎn)物經(jīng)處理后即得所述鉀摻雜介孔g-C3N4光催化材料。該光催化材料比表面積大使得反應(yīng)活性位點(diǎn)增加,鉀摻雜后可有效抑制光生電子和空穴的復(fù)合,表現(xiàn)出更優(yōu)異的光催化性能。本發(fā)明鉀摻雜介孔g-C3N4光催化材料可降解有機(jī)染料廢水,在60min能降解80%以上的目標(biāo)降解物,顯示了優(yōu)異的光催化活性。
聲明:
“鉀摻雜介孔g-C3N4光催化材料的制備方法及其應(yīng)用” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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