本發(fā)明公開了一種等離子體
固廢處理工藝的梯形高溫氧化室,包括底部縱截面為梯形的高溫氧化爐、壓力控制系統(tǒng)、氧含量控制系統(tǒng)和噴水降溫系統(tǒng);所述的壓力控制系統(tǒng)控制高溫氧化爐內的壓力為?20~?30Pa;所述的氧含量控制系統(tǒng)維持爐膛正常氧含量;所述的噴水降溫系統(tǒng)控制高溫氧化爐的正常焚燒溫度。本發(fā)明高溫氧化室內的流場和熱場更加均勻,焚燒更加穩(wěn)定,效果更佳,能顯著降低了NO
X的排放;雙
鼓風機的設置降低了聯(lián)鎖停機的可能性;在結構方面梯形的設計也更加穩(wěn)固。
聲明:
“等離子體固廢處理工藝的梯形高溫氧化室” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)