本發(fā)明涉及用于分析測量介質(zhì)的測量設(shè)備,包括:探頭殼體;輻射源;耦合和去耦光學(xué)器件,具有布置在探頭殼體中的至少一個測量窗口,并且將輻射源的輻射耦合到測量區(qū)域中,測量區(qū)域布置在探頭殼體外部并且測量介質(zhì)位于測量區(qū)域中,并且將測量輻射從測量區(qū)域去耦;接收裝置,通過耦合和去耦光學(xué)器件檢測從測量區(qū)域去耦的測量輻射并且從檢測到的測量輻射生成輸出數(shù)據(jù);至少一個附加物理或化學(xué)傳感器,集成在探頭殼體中并且檢測測量介質(zhì)的被測變量并且將被測變量的值輸出作為測量信號;和電子測量單元,連接到接收裝置并且收集和處理接收裝置的輸出數(shù)據(jù),其中電子測量單元連接到附加物理或化學(xué)傳感器并且收集和處理附加物理或化學(xué)傳感器的測量信號。
聲明:
“用于分析測量介質(zhì)的測量設(shè)備” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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