本發(fā)明提供了直流電弧等離子體化學氣相沉積裝置及金剛石涂層方法。該涂層裝置由陰極部分、陽極、真空室、
真空泵系統(tǒng)、壓力測控裝置、直流電弧弧柱、制品架、電源、磁場線圈組成;陰極部分(1)和陽極(8)處于圓桶狀真空室(2)軸線的兩端;一對磁場線圈(12)、(13)同軸地處于真空室(2)外的上下兩側(cè);真空室(2)與真空泵系統(tǒng)(3)、壓力測量和控制裝置(4)由真空管路相連接。陰極部分(1)由陰極桿(6)、陰極體(7)、保護氣體通道體(14)、反應(yīng)氣體通道體(15)以及絕緣體(17)、(18)所組成;在保護氣體通道體(14)、反應(yīng)氣體通道體(15)的下方是陰極噴口(16)。本發(fā)明的優(yōu)點在于:壽命與結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性將大幅度的改善并可靠性提高,顯著的改善金剛石涂層質(zhì)量。
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“直流電弧等離子體化學氣相沉積裝置及金剛石涂層方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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