本實(shí)用新型公開了一種雙X光機(jī)無損檢測(cè)裝置,包括基座、設(shè)置在基座上的兩個(gè)立柱和位于兩個(gè)立柱之間且與兩個(gè)立柱排列在一條直線上的載物臺(tái),其中一個(gè)立柱上設(shè)置有一面陣探測(cè)器,另一立柱上設(shè)置有X光機(jī)安裝座,該X光機(jī)安裝座上設(shè)置有兩臺(tái)具有不同焦點(diǎn)并分別與所述面陣探測(cè)器組成輻射成像系統(tǒng)的X光機(jī),所述X光機(jī)安裝座所在立柱上設(shè)置有所述兩臺(tái)X光機(jī)的位置切換裝置,所述兩個(gè)立柱其中之一固定安裝在所述基座上,另一立柱和所述載物臺(tái)沿所述直線滑動(dòng)安裝在所述基座上。本實(shí)用新型中的兩臺(tái)X光機(jī)共用一個(gè)面陣探測(cè)器,通過切換與面陣探測(cè)器配合工作的X光機(jī),具有了兩套具有不同成像功能的輻射成像系統(tǒng),擴(kuò)展了無損檢測(cè)裝置的適用范圍,同時(shí)還保持了結(jié)構(gòu)的簡(jiǎn)潔。
聲明:
“雙X光機(jī)無損檢測(cè)裝置” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)