1.本發(fā)明屬于靶材加工技術(shù)領(lǐng)域，涉及一種靶材非噴砂區(qū)的遮蔽治具及其使用方法。

背景技術(shù)：

2.靶材作為高速荷能粒子轟擊的目標(biāo)材料，通常都需要進(jìn)行磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜系統(tǒng)在適當(dāng)工藝條件下濺射在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。按材質(zhì)可以分為金屬靶材、陶瓷靶材及合金靶材等。目前，各種類型的濺射薄膜材料在半導(dǎo)體集成電路(vlsi)、光碟、平面顯示器以及工件的表面涂層等方面都得到了廣泛的應(yīng)用。20世紀(jì)90年代以來，濺射靶材及濺射技術(shù)的同步發(fā)展，極大地滿足了各種新型電子元器件發(fā)展的需求。例如，在半導(dǎo)體集成電路制造過程中，以電阻率較低的銅導(dǎo)體薄膜代替鋁膜布線：在平面顯示器產(chǎn)業(yè)中，各種顯示技術(shù)(如lcd、pdp、oled及fed等)的同步發(fā)展，有的已經(jīng)用于電腦及計算機(jī)的顯示器制造；在信息存儲產(chǎn)業(yè)中，磁性存儲器的存儲容量不斷增加，新的磁光記錄材料不斷推陳出新這些都對所需濺射靶材的質(zhì)量提出了越來越高的要求，需求數(shù)量也逐年增加。

3.靶材濺射是指在被濺射的靶極(陰極)與陽極之間加一個正交磁場和電場，在高真空室中充入所需要的惰性氣體(通常為ar氣)，永久磁鐵在靶材料表面形成250～350高斯的磁場，同高壓電場組成正交電磁場。在電場的作用下，ar氣電離成正離子和電子，靶上加有一定的負(fù)高壓，從靶極發(fā)出的電子受磁場的作用與工作氣體的電離幾率增大，在陰極附近形成高密度的等離子體，ar離子在洛侖茲力的作用下加速飛向靶面，以很高的速度轟擊靶面，使靶上被濺射出來的原子遵循動量轉(zhuǎn)換原理以較高的動能脫離靶面飛向基片淀積成膜。磁控濺射一般分為二種：直流濺射和射頻濺射，其中直流濺射設(shè)備原理簡單，在濺射金屬時，其速率也快。而射頻濺射的使用范圍更為廣泛，除可濺射導(dǎo)電材料外，也可濺射非導(dǎo)電的材料，同時還可進(jìn)行反應(yīng)濺射制備氧化物、氮化物和碳化物等化合物材料。若射頻的頻率提高后就成為微波等離子體濺射，如今，常用的有電子回旋共振(e微波等離子體濺射。

4.目前的靶材制備中，在靶材進(jìn)行濺射之前，需要進(jìn)行噴砂處理，以使得靶材獲得較好的機(jī)械性能。噴砂是利用高速砂流的沖擊作用清理和粗化基體表面的過程。采用壓縮空氣為動力，以形成高速噴射束將噴料(銅礦砂、石英砂、金剛砂、鐵砂、海南砂)高速噴射到需要處理的工件表面，使工件表面的外表面的外表或形狀發(fā)生變化，由于磨料對工件表面的沖擊和切削作用，使工件的表面獲得一定的清潔度和不同的粗糙度，使工件表面的機(jī)械性能得到改善，因此提高了工件的抗疲勞性，增加了它和涂層之間的附著力，延長了涂膜的耐久性，也有利于涂料的流平和裝飾。噴砂目前主要應(yīng)用于以下方面：

5.(1)工件涂鍍、工件粘接前處理噴砂能把工件表面的銹皮等一切污物清除，并在工件表面建立起十分重要的基礎(chǔ)圖式(即通常所謂的毛面)，而且可以通過調(diào)換不同粒度的磨料，比如飛展磨料磨具的磨料達(dá)到不同程度的粗糙度，大大提高工件與涂料、鍍料的結(jié)合力?；蚴拐辰蛹辰痈喂蹋|(zhì)量更好。

6.(2)鑄造件毛面、熱處理后工件的清理與拋光噴砂能清理鑄鍛件、熱處理后工件表面的一切污物(如氧化皮、油污等殘留物)，并將工件表面拋光提高工件的光潔度，能使工件露出均勻一致的金屬本色，使工件外表更美觀，好看。

7.(3)機(jī)加工件毛刺清理與表面美化噴砂能清理工件表面的微小毛刺，并使工件表面更加平整，消除了毛刺的危害，提高了工件的檔次。并且噴砂能在工件表面交界處打出很小的圓角，使工件顯得更加美觀、更加精密。

8.(4)改善零件的機(jī)械性能，機(jī)械零件經(jīng)噴砂后，能在零件表面產(chǎn)生均勻細(xì)微的凹凸面，使?jié)櫥偷玫酱鎯?，從而使?jié)櫥瑮l件改善，并減少噪聲提高機(jī)械使用壽命。

9.(5)光飾作用對于某些特殊用途工件，噴砂可隨意實現(xiàn)不同的反光或亞光。如不銹鋼工件、塑膠的打磨，玉器的磨光，木制家具表面亞光化，磨砂玻璃表面的花紋圖案，以及布料表面的毛化加工等。

10.其中，在噴砂前還需要進(jìn)行前處理，噴砂前處理是指對于工件在被噴涂、噴鍍保護(hù)層之前，工件表面均應(yīng)進(jìn)行的處理。噴砂工藝前處理質(zhì)量好壞，影響著涂層的附著力、外觀、涂層的耐潮濕及耐腐蝕等方面。前處理工作做的不好，銹蝕仍會在涂層下繼續(xù)蔓延，使涂層成片脫落。經(jīng)過認(rèn)真清理的表面和一般簡單清理的工件，用暴曬法進(jìn)行涂層比較，壽命可相差4～5倍。表面清理的方法很多，但被接受最普遍的方法是：溶劑清理，酸洗，手動工具，動力工具。

11.目前，由于部分靶材的特殊性質(zhì)，在進(jìn)行噴砂時，只需針對濺射面的部分進(jìn)行噴砂，而其中一部分不需要噴砂，即該部分需要保護(hù)起來，使其免受噴砂的影響，以使得該靶材在噴砂過程中不會報廢?，F(xiàn)有技術(shù)中對于非噴砂面采用的保護(hù)措施是通過膠帶的粘貼實現(xiàn)的，但是目前的遮蔽過程中采用的膠帶，由于其自身強(qiáng)度的限制，在噴砂過程中會破損，導(dǎo)致不需要進(jìn)行噴砂的濺射面受到損傷，使得該遮蔽措施無法保護(hù)靶材；進(jìn)一步地，在遮蔽操作時，由于膠帶的寬度較小，使得在遮蔽時無法將想遮蔽的區(qū)域完全遮蔽，最終導(dǎo)致噴砂后的靶材不達(dá)標(biāo)而無法使用。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

12.針對現(xiàn)有技術(shù)存在的不足，本發(fā)明的目的在于提供一種靶材非噴砂區(qū)的遮蔽治具及其使用方法，用于對靶材的非噴砂區(qū)進(jìn)行遮蔽防護(hù)，將遮蔽治具放置在非噴砂區(qū)表面，對非噴砂部進(jìn)行有效遮擋防護(hù)，保證了噴砂后的靶材達(dá)到使用標(biāo)準(zhǔn)，有效提高了產(chǎn)品的品質(zhì)和良率，有利于規(guī)?；a(chǎn)，具有良好的工業(yè)化應(yīng)用前景。

13.為達(dá)此目的，本發(fā)明采用以下技術(shù)方案：

14.第一方面，本發(fā)明提供了一種靶材非噴砂區(qū)的遮蔽治具，所述遮蔽治具包括遮蔽組件和壓板，所述遮蔽組件設(shè)置于靶材的非噴砂區(qū)表面，用于遮蔽所述非噴砂區(qū)，所述遮蔽組件由若干多邊形遮蔽板拼接形成；所述壓板設(shè)置于所述遮蔽組件表面，用于固定所述遮蔽組件。

15.本發(fā)明提供了一種針對靶材非噴砂區(qū)的遮蔽治具，用于對靶材的非噴砂區(qū)進(jìn)行遮蔽防護(hù)，將遮蔽治具放置在非噴砂區(qū)表面，對非噴砂部進(jìn)行有效遮擋防護(hù)，保證了噴砂后的靶材達(dá)到使用標(biāo)準(zhǔn)，有效提高了產(chǎn)品的品質(zhì)和良率，有利于規(guī)?；a(chǎn)，具有良好的工業(yè)化應(yīng)用前景。此外，本發(fā)明中的遮蔽組件由若干多邊形遮蔽板拼接形成，安裝后使用，使用后

拆卸便于收納。

16.作為本發(fā)明一種優(yōu)選的技術(shù)方案，所述遮蔽板的邊緣或頂點處設(shè)置有至少一個拼接件，不同遮蔽板的拼接件之間為互補(bǔ)結(jié)構(gòu)，通過連接件之間的相互嵌入實現(xiàn)各遮蔽板之間在水平方向的固定。

17.在本發(fā)明中，遮蔽組件為粉體式結(jié)構(gòu)，由若干遮蔽板拼接形成，方便拆卸、拿取和收納。為了進(jìn)一步提高遮蔽效果，需要降低遮蔽板之間的縫隙，并防止在噴砂過程中遮蔽板因為振動發(fā)生水平方向的位移，因此本發(fā)明在遮蔽板邊緣或頂點處設(shè)置了拼接件，拼接件為遮蔽板的一部分，且為一體結(jié)構(gòu)，通過拼接件更好地連接固定了各個連接件。

18.需要說明的是，本發(fā)明對連接件的結(jié)構(gòu)不作具體要求和特殊限定，優(yōu)選采用陰陽互補(bǔ)結(jié)構(gòu)，以榫卯插接或拼圖拼接的方式相互嵌入或插入，使得各遮蔽板形成相對穩(wěn)固的整體。采用以上結(jié)構(gòu)的優(yōu)勢在于：一方面，減小了遮蔽板之間的縫隙；另一方面，有效抑制了噴砂過程中遮蔽板出現(xiàn)水平方向的位移，而豎直方向的位移則由壓板進(jìn)行限制；通過連接件和壓板分別從水平方向和豎直方向限制了遮蔽組件的移動，進(jìn)而提高了遮蔽防護(hù)效果。

19.作為本發(fā)明一種優(yōu)選的技術(shù)方案，所述遮蔽組件為矩形結(jié)構(gòu)。

20.優(yōu)選地，所述遮蔽組件和非噴砂區(qū)表面之間設(shè)置有防護(hù)層。

21.優(yōu)選地，所述遮蔽組件的尺寸大于靶材非噴砂區(qū)的尺寸。

22.本發(fā)明在遮蔽組件和非噴砂區(qū)表面之間設(shè)置有防護(hù)層，主要用于防止遮蔽組件對靶材表面產(chǎn)生壓傷或劃痕。

23.作為本發(fā)明一種優(yōu)選的技術(shù)方案，所述壓板底面的四角出分別設(shè)置有一個支桿，所述支桿兩端分別對接所述壓板底面和靶材表面，所述遮蔽組件夾設(shè)于所述壓板和靶材之間。

24.作為本發(fā)明一種優(yōu)選的技術(shù)方案，所述支桿靠近靶材表面的一端設(shè)置有固定件，通過所述固定件固定所述壓板。

25.優(yōu)選地，所述固定件為吸盤。

26.為了更好地固定遮蔽組件，本發(fā)明在遮蔽組件上放置了壓板，通過重量下壓固定遮蔽組件，另外，在支桿一端設(shè)置吸盤，通過吸盤吸附于靶材表面，進(jìn)一步提高了壓板的壓緊力，使得遮蔽組件更穩(wěn)固地固定于靶材非噴砂區(qū)。

27.作為本發(fā)明一種優(yōu)選的技術(shù)方案，所述支桿為軸向貫通的中空結(jié)構(gòu)，所述支桿空腔的一端與所述固定件連通，所述支桿空腔的另一端接入抽氣裝置，所述抽氣裝置用于抽吸所述固定件內(nèi)的空氣，在氣壓作用下將所述壓板壓緊。

28.本發(fā)明在吸盤的基礎(chǔ)上增設(shè)了抽氣裝置，通過吸盤本身的吸力結(jié)合抽氣裝置的抽氣，進(jìn)一步降低了吸盤內(nèi)的壓力，使得緊緊吸附在靶材表面，進(jìn)而使得噴砂過程裝置不會脫落，進(jìn)一步保證了靶材噴砂的質(zhì)量。本發(fā)明對限定的抽氣裝置的類型和結(jié)構(gòu)不作具體要求和特殊限定，但由于吸盤內(nèi)部空間較小，所采用的抽氣裝置可以是注射器或類似的活塞式抽吸裝置。

29.作為本發(fā)明一種優(yōu)選的技術(shù)方案，所述遮蔽組件由第一遮蔽板和第二遮蔽板拼接形成，所述第一遮蔽板和第二遮蔽板為大小相同的矩形，拼接后形成矩形結(jié)構(gòu)的遮蔽組件。

30.所述第一遮蔽板的一側(cè)邊緣處設(shè)置有缺口，所述第二遮蔽板的一側(cè)邊緣處延伸形成平面的凸起，所述第二遮蔽板的凸起嵌入第一遮蔽板的缺口內(nèi)。

31.優(yōu)選地，所述凸起形狀與缺口形狀相同，且均為優(yōu)弧。

32.作為本發(fā)明一種優(yōu)選的技術(shù)方案，所述遮蔽組件由四塊遮蔽板拼接形成，四塊遮蔽板的其中一個頂點交匯于中心點。

33.四塊遮蔽板的中心點兩側(cè)邊緣分別設(shè)置有一個缺口和一個凸起，其中一塊遮蔽板的凸起嵌入相鄰的另一塊遮蔽板的缺口，圍繞中心點按照順時針或逆時針方向依次拼接形成矩形結(jié)構(gòu)的遮蔽組件。

34.作為本發(fā)明一種優(yōu)選的技術(shù)方案，所述遮蔽板的形狀為矩形或三角形。

35.需要說明的是，本發(fā)明中由于連接件的存在，各遮蔽板無法在水平方向上進(jìn)行拼接，而要在豎直方向上進(jìn)行拼接。

36.第二方面，本發(fā)明提供了一種第一方面所述的靶材非噴砂區(qū)的遮蔽治具的使用方法，所述使用方法包括：

37.將若干遮蔽板拼接形成遮蔽組件，蓋設(shè)于靶材的非噴砂區(qū)表面，遮蔽非噴砂區(qū)，在遮蔽組件上壓上壓板，對靶材的噴砂區(qū)進(jìn)行噴砂。

38.與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的有益效果為：

39.本發(fā)明提供了一種針對靶材非噴砂區(qū)的遮蔽治具，用于對靶材的非噴砂區(qū)進(jìn)行遮蔽防護(hù)，將遮蔽治具放置在非噴砂區(qū)表面，對非噴砂部進(jìn)行有效遮擋防護(hù)，保證了噴砂后的靶材達(dá)到使用標(biāo)準(zhǔn)，有效提高了產(chǎn)品的品質(zhì)和良率，有利于規(guī)?；a(chǎn)，具有良好的工業(yè)化應(yīng)用前景。此外，本發(fā)明中的遮蔽組件由若干多邊形遮蔽板拼接形成，安裝后使用，使用后拆卸便于收納。

附圖說明

40.圖1為本發(fā)明一個具體實施方式提供的遮蔽治具的結(jié)構(gòu)示意圖；

41.圖2為本發(fā)明一個具體實施方式提供的遮蔽組件的結(jié)構(gòu)示意圖；

42.圖3為本發(fā)明一個具體實施方式提供的遮蔽組件的結(jié)構(gòu)示意圖；

43.圖4為本發(fā)明一個具體實施方式提供的遮蔽組件的結(jié)構(gòu)示意圖；

44.其中，1-靶材；2-非噴砂區(qū)；3-遮蔽組件；4-壓板；5-固定件；6-抽氣裝置；7-遮蔽板；8-拼接件；9-第一遮蔽板；10-第二遮蔽板。

具體實施方式

45.需要理解的是，在本發(fā)明的描述中，術(shù)語“中心”、“縱向”、“橫向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“豎直”、“水平”、“頂”、“底”、“內(nèi)”、“外”等指示的方位或位置關(guān)系為基于附圖所示的方位或位置關(guān)系，僅是為了便于描述本發(fā)明和簡化描述，而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構(gòu)造和操作，因此不能理解為對本發(fā)明的限制。此外，術(shù)語“第一”、“第二”等僅用于描述目的，而不能理解為指示或暗示相對重要性或者隱含指明所指示的技術(shù)特征的數(shù)量。由此，限定有“第一”、“第二”等的特征可以明示或者隱含地包括一個或者更多個該特征。在本發(fā)明的描述中，除非另有說明，“多個”的含義是兩個或兩個以上。

46.需要說明的是，在本發(fā)明的描述中，除非另有明確的規(guī)定和限定，術(shù)語“設(shè)置”、“相連”、“連接”應(yīng)做廣義理解，例如，可以是固定連接，也可以是可拆卸連接，或一體連接；可以

是機(jī)械連接，也可以是電連接；可以是直接相連，也可以通過中間媒介間接相連，可以是兩個元件內(nèi)部的連通。對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員而言，可以通過具體情況理解上述術(shù)語在本發(fā)明中的具體含義。

47.下面通過具體實施方式來進(jìn)一步說明本發(fā)明的技術(shù)方案。

48.在一個具體實施方式中，本發(fā)明提供了一種靶材1非噴砂區(qū)2的遮蔽治具，所述遮蔽治具如圖1所示，包括遮蔽組件3和壓板4，所述遮蔽組件3設(shè)置于靶材1的非噴砂區(qū)2表面，用于遮蔽所述非噴砂區(qū)2，所述遮蔽組件3由若干多邊形遮蔽板7拼接形成；所述壓板4設(shè)置于所述遮蔽組件3表面，用于固定所述遮蔽組件3。

49.本發(fā)明提供了一種針對靶材1非噴砂區(qū)2的遮蔽治具，用于對靶材1的非噴砂區(qū)2進(jìn)行遮蔽防護(hù)，將遮蔽治具放置在非噴砂區(qū)2表面，對非噴砂部進(jìn)行有效遮擋防護(hù)，保證了噴砂后的靶材1達(dá)到使用標(biāo)準(zhǔn)，有效提高了產(chǎn)品的品質(zhì)和良率，有利于規(guī)模化生產(chǎn)，具有良好的工業(yè)化應(yīng)用前景。此外，本發(fā)明中的遮蔽組件3由若干多邊形遮蔽板7拼接形成，安裝后使用，使用后拆卸便于收納。

50.進(jìn)一步地，所述遮蔽板7的邊緣或頂點處設(shè)置有至少一個拼接件8，不同遮蔽板7的拼接件8之間為互補(bǔ)結(jié)構(gòu)，通過連接件之間的相互嵌入實現(xiàn)各遮蔽板7之間在水平方向的固定。

51.在本發(fā)明中，遮蔽組件3為粉體式結(jié)構(gòu)，由若干遮蔽板7拼接形成，方便拆卸、拿取和收納。為了進(jìn)一步提高遮蔽效果，需要降低遮蔽板7之間的縫隙，并防止在噴砂過程中遮蔽板7因為振動發(fā)生水平方向的位移，因此本發(fā)明在遮蔽板7邊緣或頂點處設(shè)置了拼接件8，拼接件8為遮蔽板7的一部分，且為一體結(jié)構(gòu)，通過拼接件8更好地連接固定了各個連接件。

52.需要說明的是，本發(fā)明對連接件的結(jié)構(gòu)不作具體要求和特殊限定，優(yōu)選采用陰陽互補(bǔ)結(jié)構(gòu)，以榫卯插接或拼圖拼接的方式相互嵌入或插入(如圖2、圖3和圖4所示)，使得各遮蔽板7形成相對穩(wěn)固的整體。采用以上結(jié)構(gòu)的優(yōu)勢在于：一方面，減小了遮蔽板7之間的縫隙；另一方面，有效抑制了噴砂過程中遮蔽板7出現(xiàn)水平方向的位移，而豎直方向的位移則由壓板4進(jìn)行限制；通過連接件和壓板4分別從水平方向和豎直方向限制了遮蔽組件3的移動，進(jìn)而提高了遮蔽防護(hù)效果。

53.進(jìn)一步地，所述遮蔽組件3為矩形結(jié)構(gòu)。

54.進(jìn)一步地，所述遮蔽組件3和非噴砂區(qū)2表面之間設(shè)置有防護(hù)層。

55.進(jìn)一步地，所述遮蔽組件3的尺寸大于靶材1非噴砂區(qū)2的尺寸。

56.本發(fā)明在遮蔽組件3和非噴砂區(qū)2表面之間設(shè)置有防護(hù)層，主要用于防止遮蔽組件3對靶材1表面產(chǎn)生壓傷或劃痕。

57.進(jìn)一步地，所述壓板4底面的四角出分別設(shè)置有一個支桿，所述支桿兩端分別對接所述壓板4底面和靶材1表面，所述遮蔽組件3夾設(shè)于所述壓板4和靶材1之間。

58.進(jìn)一步地，所述支桿靠近靶材1表面的一端設(shè)置有固定件5，通過所述固定件5固定所述壓板4。

59.進(jìn)一步地，所述固定件5為吸盤。

60.為了更好地固定遮蔽組件3，本發(fā)明在遮蔽組件3上放置了壓板4，通過重量下壓固定遮蔽組件3，另外，在支桿一端設(shè)置吸盤，通過吸盤吸附于靶材1表面，進(jìn)一步提高了壓板4的壓緊力，使得遮蔽組件3更穩(wěn)固地固定于靶材1非噴砂區(qū)2。

61.進(jìn)一步地，所述支桿為軸向貫通的中空結(jié)構(gòu)，所述支桿空腔的一端與所述固定件5連通，所述支桿空腔的另一端接入抽氣裝置6，所述抽氣裝置6用于抽吸所述固定件5內(nèi)的空氣，在氣壓作用下將所述壓板4壓緊。

62.本發(fā)明在吸盤的基礎(chǔ)上增設(shè)了抽氣裝置6，通過吸盤本身的吸力結(jié)合抽氣裝置6的抽氣，進(jìn)一步降低了吸盤內(nèi)的壓力，使得緊緊吸附在靶材1表面，進(jìn)而使得噴砂過程裝置不會脫落，進(jìn)一步保證了靶材1噴砂的質(zhì)量。本發(fā)明對限定的抽氣裝置6的類型和結(jié)構(gòu)不作具體要求和特殊限定，但由于吸盤內(nèi)部空間較小，所采用的抽氣裝置6可以是注射器或類似的活塞式抽吸裝置。

63.進(jìn)一步地，如圖2所示，所述遮蔽組件3由第一遮蔽板9和第二遮蔽板10拼接形成，所述第一遮蔽板9和第二遮蔽板10為大小相同的矩形，拼接后形成矩形結(jié)構(gòu)的遮蔽組件3。

64.所述第一遮蔽板9的一側(cè)邊緣處設(shè)置有缺口，所述第二遮蔽板10的一側(cè)邊緣處延伸形成平面的凸起，所述第二遮蔽板10的凸起嵌入第一遮蔽板9的缺口內(nèi)。

65.進(jìn)一步地，所述凸起形狀與缺口形狀相同，且均為優(yōu)弧。

66.進(jìn)一步地，所述遮蔽組件3由四塊遮蔽板7拼接形成，四塊遮蔽板7的其中一個頂點交匯于中心點。

67.四塊遮蔽板7的中心點兩側(cè)邊緣分別設(shè)置有一個缺口和一個凸起，其中一塊遮蔽板7的凸起嵌入相鄰的另一塊遮蔽板7的缺口，圍繞中心點按照順時針或逆時針方向依次拼接形成矩形結(jié)構(gòu)的遮蔽組件3。

68.進(jìn)一步地，所述遮蔽板7的形狀為矩形(如圖4所示)或三角形(如圖3所示)。

69.需要說明的是，本發(fā)明中由于連接件的存在，各遮蔽板7無法在水平方向上進(jìn)行拼接，而要在豎直方向上進(jìn)行拼接。

70.在另一個具體實施方式中，本發(fā)明提供了一種上述的靶材1非噴砂區(qū)2的遮蔽治具的使用方法，所述使用方法包括：

71.將若干遮蔽板7拼接形成遮蔽組件3，蓋設(shè)于靶材1的非噴砂區(qū)2表面，遮蔽非噴砂區(qū)2，在遮蔽組件3上壓上壓板4，對靶材1的噴砂區(qū)進(jìn)行噴砂。

72.申請人聲明，以上所述僅為本發(fā)明的具體實施方式，但本發(fā)明的保護(hù)范圍并不局限于此，所屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員應(yīng)該明了，任何屬于本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本發(fā)明揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，可輕易想到的變化或替換，均落在本發(fā)明的保護(hù)范圍和公開范圍之內(nèi)。技術(shù)特征：

1.一種靶材非噴砂區(qū)的遮蔽治具，其特征在于，所述遮蔽治具包括遮蔽組件和壓板，所述遮蔽組件設(shè)置于靶材的非噴砂區(qū)表面，用于遮蔽所述非噴砂區(qū)，所述遮蔽組件由若干多邊形遮蔽板拼接形成；所述壓板設(shè)置于所述遮蔽組件表面，用于固定所述遮蔽組件。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的靶材非噴砂區(qū)的遮蔽治具，其特征在于，所述遮蔽板的邊緣或頂點處設(shè)置有至少一個拼接件，不同遮蔽板的拼接件之間為互補(bǔ)結(jié)構(gòu)，通過連接件之間的相互嵌入實現(xiàn)各遮蔽板之間在水平方向的固定。3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的靶材非噴砂區(qū)的遮蔽治具，其特征在于，所述遮蔽組件為矩形結(jié)構(gòu)；優(yōu)選地，所述遮蔽組件和非噴砂區(qū)表面之間設(shè)置有防護(hù)層；優(yōu)選地，所述遮蔽組件的尺寸大于靶材非噴砂區(qū)的尺寸。4.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一項所述的靶材非噴砂區(qū)的遮蔽治具，其特征在于，所述壓板底面的四角出分別設(shè)置有一個支桿，所述支桿兩端分別對接所述壓板底面和靶材表面，所述遮蔽組件夾設(shè)于所述壓板和靶材之間。5.根據(jù)權(quán)利要求1-4任一項所述的靶材非噴砂區(qū)的遮蔽治具，其特征在于，所述支桿靠近靶材表面的一端設(shè)置有固定件，通過所述固定件固定所述壓板；優(yōu)選地，所述固定件為吸盤。6.根據(jù)權(quán)利要求1-5任一項所述的靶材非噴砂區(qū)的遮蔽治具，其特征在于，所述支桿為軸向貫通的中空結(jié)構(gòu)，所述支桿空腔的一端與所述固定件連通，所述支桿空腔的另一端接入抽氣裝置，所述抽氣裝置用于抽吸所述固定件內(nèi)的空氣，在氣壓作用下將所述壓板壓緊。7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的靶材非噴砂區(qū)的遮蔽治具，其特征在于，所述遮蔽組件由第一遮蔽板和第二遮蔽板拼接形成，所述第一遮蔽板和第二遮蔽板為大小相同的矩形，拼接后形成矩形結(jié)構(gòu)的遮蔽組件；所述第一遮蔽板的一側(cè)邊緣處設(shè)置有缺口，所述第二遮蔽板的一側(cè)邊緣處延伸形成平面的凸起，所述第二遮蔽板的凸起嵌入第一遮蔽板的缺口內(nèi)；優(yōu)選地，所述凸起形狀與缺口形狀相同，且均為優(yōu)弧。8.根據(jù)權(quán)利要求2所述的靶材非噴砂區(qū)的遮蔽治具，其特征在于，所述遮蔽組件由四塊遮蔽板拼接形成，四塊遮蔽板的其中一個頂點交匯于中心點；四塊遮蔽板的中心點兩側(cè)邊緣分別設(shè)置有一個缺口和一個凸起，其中一塊遮蔽板的凸起嵌入相鄰的另一塊遮蔽板的缺口，圍繞中心點按照順時針或逆時針方向依次拼接形成矩形結(jié)構(gòu)的遮蔽組件。9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的靶材非噴砂區(qū)的遮蔽治具，其特征在于，所述遮蔽板的形狀為矩形或三角形。10.一種權(quán)利要求1-9任一項所述的靶材非噴砂區(qū)的遮蔽治具的使用方法，其特征在于，所述使用方法包括：將若干遮蔽板拼接形成遮蔽組件，蓋設(shè)于靶材的非噴砂區(qū)表面，遮蔽非噴砂區(qū)，在遮蔽組件上壓上壓板，對靶材的噴砂區(qū)進(jìn)行噴砂。

技術(shù)總結(jié)

本發(fā)明提供了一種靶材非噴砂區(qū)的遮蔽治具及其使用方法，所述遮蔽治具包括遮蔽組件和壓板，所述遮蔽組件設(shè)置于靶材的非噴砂區(qū)表面，用于遮蔽所述非噴砂區(qū)，所述遮蔽組件由若干多邊形遮蔽板拼接形成；所述壓板設(shè)置于所述遮蔽組件表面，用于固定所述遮蔽組件。本發(fā)明提供了一種針對靶材非噴砂區(qū)的遮蔽治具，用于對靶材的非噴砂區(qū)進(jìn)行遮蔽防護(hù)，將遮蔽治具放置在非噴砂區(qū)表面，對非噴砂部進(jìn)行有效遮擋防護(hù)，保證了噴砂后的靶材達(dá)到使用標(biāo)準(zhǔn)，有效提高了產(chǎn)品的品質(zhì)和良率，有利于規(guī)?；a(chǎn)，具有良好的工業(yè)化應(yīng)用前景。有良好的工業(yè)化應(yīng)用前景。有良好的工業(yè)化應(yīng)用前景。

技術(shù)研發(fā)人員：姚力軍 潘杰 王學(xué)澤 李闖 范文新 周偉君

受保護(hù)的技術(shù)使用者：武漢江豐電子材料有限公司

技術(shù)研發(fā)日：2022.03.21

技術(shù)公布日：2022/6/3