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納米銅顆粒原位修飾的微米級多孔硅復(fù)合結(jié)構(gòu)材料及其制備方法

903   編輯:管理員   來源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-18 16:35:02
本發(fā)明公開了一種納米銅顆粒修飾的微米級多孔硅復(fù)合結(jié)構(gòu)材料及其制備方法,該材料是由納米級銅顆粒嵌入多孔硅骨架結(jié)構(gòu)內(nèi)部以及表面修飾形成的微米級球型結(jié)構(gòu)。其合成首先是一步法堿性還原/刻蝕商業(yè)化硅鋁合金形成鋅顆粒修飾的微米級多孔硅結(jié)構(gòu),在此基礎(chǔ)上通過化學(xué)置換銅納米顆粒,然后進(jìn)行熱處理和二次酸刻蝕處理得到納米級銅顆粒修飾的微米級多孔硅復(fù)合材料。該方法區(qū)別于目前常見的酸性化學(xué)刻蝕方法,特別是利用鋁組分在堿性環(huán)境中較高的還原性進(jìn)行同步還原/刻蝕,具有較高的普適性和高效性,能夠在短時(shí)間內(nèi)完成大規(guī)模制備生產(chǎn),所用原料價(jià)格低廉,經(jīng)濟(jì)環(huán)保,原子利用率較高,并且較好的提升硅材料的導(dǎo)電性和鋰電性能,具有極為廣泛的應(yīng)用前景和商業(yè)化價(jià)值。
聲明:
“納米銅顆粒原位修飾的微米級多孔硅復(fù)合結(jié)構(gòu)材料及其制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
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