本發(fā)明公開了一種基于光片技術(shù)的全覆蓋式儲(chǔ)氫罐泄漏監(jiān)測(cè)方法及裝置,該裝置包括三組透射式紋影系統(tǒng),三組傳感系統(tǒng)間隔120度均勻分布,實(shí)現(xiàn)對(duì)儲(chǔ)氫罐表面的全覆蓋,每組系傳感統(tǒng)包括光源、凸透鏡1、凸透鏡2、準(zhǔn)直鏡、光柵、紋影鏡、刀口、CCD相機(jī)組成。本發(fā)明的技術(shù)優(yōu)勢(shì)主要為成本低、本質(zhì)安全、全覆蓋。本發(fā)明的元件均價(jià)格低廉,成本低,現(xiàn)有技術(shù)成本高昂,一臺(tái)儀器就需要幾萬(wàn)美元甚至更多。由于氫氣泄漏會(huì)發(fā)生自燃、爆炸等危險(xiǎn),一般的化學(xué)檢測(cè)方法有一定的危險(xiǎn)性,本發(fā)明運(yùn)用光學(xué)的方法,通過光強(qiáng)的變化檢測(cè)泄漏是否發(fā)生,對(duì)氫氣泄漏無(wú)接觸,本質(zhì)安全。最后,本發(fā)明對(duì)儲(chǔ)氫罐的檢測(cè)是全覆蓋式的,三組120°紋影系統(tǒng)可以全方位檢測(cè)儲(chǔ)氫罐泄露情況。
聲明:
“基于光片技術(shù)的全覆蓋式儲(chǔ)氫罐泄漏監(jiān)測(cè)方法及裝置” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)