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本發(fā)明涉及一種柵極單元及其制備方法、陣列基板的制備方法、顯示機(jī)構(gòu)。該柵極單元的制備方法包括如下步驟:在襯底上設(shè)置導(dǎo)電層;在導(dǎo)電層遠(yuǎn)離襯底的一側(cè)形成光刻膠層;對(duì)光刻膠層進(jìn)行曝光處理,再經(jīng)顯影而在光刻膠層上形成貫通光刻膠層的凹槽,形成具有圖案的光刻膠層;及在具有圖案的光刻膠層上電化學(xué)沉積功能材料,然后去除光刻膠層,得到形成有圖案層的導(dǎo)電層,得到柵極單元。采用上述制備方法得到的柵極單元能夠制備充電時(shí)間較短的陣列基板。
本發(fā)明涉及一種源漏電極的制備方法、陣列基板的制備方法和顯示機(jī)構(gòu)。該源漏電極的制備方法包括如下步驟:在襯底上設(shè)置導(dǎo)電層;在導(dǎo)電層遠(yuǎn)離襯底的一側(cè)形成光刻膠層;對(duì)光刻膠層進(jìn)行曝光處理,再經(jīng)顯影而在光刻膠層上形成貫通光刻膠層的凹槽,形成具有圖案的光刻膠層;及在具有圖案的光刻膠層上電化學(xué)沉積功能材料,然后去除光刻膠層,得到形成有圖案層的導(dǎo)電層,得到源漏電極。采用上述制備方法得到的源漏電極的電導(dǎo)率較高。
本發(fā)明涉及一種數(shù)據(jù)線的制備方法、陣列基板的制備方法和顯示機(jī)構(gòu)。該數(shù)據(jù)線的制備方法包括如下步驟:在襯底上設(shè)置導(dǎo)電層;在導(dǎo)電層遠(yuǎn)離襯底的一側(cè)形成光刻膠層;對(duì)光刻膠層進(jìn)行曝光處理,再經(jīng)顯影而在光刻膠層上形成貫通光刻膠層的凹槽,形成具有圖案的光刻膠層;及在具有圖案的光刻膠層上電化學(xué)沉積功能材料,然后去除光刻膠層,得到形成有圖案層的導(dǎo)電層,得到數(shù)據(jù)線。采用上述制備方法得到的數(shù)據(jù)線的電導(dǎo)率較高。
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