本發(fā)明公開(kāi)了一種抑制連鑄板坯角部奧氏體晶粒尺寸的方法和裝置,屬于冶金連鑄技術(shù)領(lǐng)域。它包括固定在寬面支撐板上的寬面銅板和固定在窄面支撐板上的窄面銅板,所述窄面銅板和寬面銅板的上端面平齊,所述窄面銅板下端面短于寬面銅板下端面100?300mm,所述窄面支撐板下端面對(duì)稱地固定有足輥支架,足輥支架對(duì)稱設(shè)置有足輥,位于一側(cè)的足輥形成的內(nèi)輥面和窄面銅板的內(nèi)壁在同一個(gè)平面上;噴淋桿通過(guò)噴淋桿支架固定定于足輥支架上,噴淋支管的一端固定于噴淋桿上,并與噴淋桿的內(nèi)腔連通,另一端安裝有噴嘴,改善了傳熱條件,提高了冷卻速率,有效促進(jìn)了表面晶粒細(xì)化和析出物在晶內(nèi)的彌散分布析出,提高了鑄坯窄面質(zhì)量。
聲明:
“抑制連鑄板坯角部奧氏體晶粒尺寸的方法和裝置” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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