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{010}高能晶面暴露BiOCl納米片材料的制備方法及其應(yīng)用

594   編輯:管理員   來源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-19 00:23:43
本發(fā)明涉及一種{010}高能晶面暴露BiOCl納米片材料的制備方法及其應(yīng)用。本發(fā)明按一定比例將鉍源、氯源和堿源混合均勻,將高能球磨的機械力同步作用于化學(xué)反應(yīng),然后在200~600℃下熱處理,再經(jīng)過洗滌除雜、固液分離、干燥制備出BiOCl納米片材料。所制備的BiOCl材料由厚度為5~50nm、邊長為150~250nm的納米片組成,{010}晶面暴露程度為60~90%。本發(fā)明具有制備工藝簡單、易實現(xiàn)工業(yè)化生產(chǎn)、制造工藝成本低、環(huán)境友好等優(yōu)勢。所制備的{010}高能晶面暴露BiOCl納米片材料在超級電容器、堿性二次電池、鋰離子電池、光催化劑、珠光顏料、醫(yī)藥等領(lǐng)域具有廣泛應(yīng)用。
聲明:
“{010}高能晶面暴露BiOCl納米片材料的制備方法及其應(yīng)用” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
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