本發(fā)明提供了一種用于含有互連金屬的半導(dǎo)體晶片化學(xué)機(jī)械拋光的化學(xué)機(jī)械拋光組合物，它包含，作為初始成分的：水；唑類抑制劑；堿金屬有機(jī)表面活性劑；水溶助劑；含磷試劑；水溶性纖維素；任選的非糖類水溶性聚合物；任選的化學(xué)式I的水溶性酸化合物，其中R選自氫和C1-5烷基，并且其中x是1或2；任選的絡(luò)合劑；任選的氧化劑；任選的有機(jī)溶劑；以及任選的磨料。另外，還提供了本發(fā)明化學(xué)機(jī)械拋光組合物的制備方法和對基材進(jìn)行化學(xué)機(jī)械拋光的方法，包括：提供基材，其中基材是具有銅互連的半導(dǎo)體晶片；提供本發(fā)明的化學(xué)機(jī)械拋光組合物；提供化學(xué)機(jī)械拋光墊；施加0.69至34.5kPa的向下作用力，使化學(xué)機(jī)械拋光墊與基材之間界面處產(chǎn)生動態(tài)接觸；以及在化學(xué)機(jī)械拋光墊與基材之間界面處或附近將化學(xué)機(jī)械拋光組合物分配到化學(xué)機(jī)械拋光墊上；其中化學(xué)機(jī)械拋光組合物的pH通過加入磷酸，氫氧化鎂和氫氧化鋰中的至少一種調(diào)整至pH為2至6。