本發(fā)明涉及用于分析測量介質(zhì)的測量設(shè)備和用于確定分析值的方法,測量設(shè)備包括:探頭殼體;輻射源;耦合和去耦光學器件,具有布置在探頭殼體中的至少一個測量窗口,并且將輻射源的輻射耦合到測量區(qū)域中,測量區(qū)域布置在探頭殼體外部并且測量介質(zhì)位于測量區(qū)域中,并且將測量輻射從測量區(qū)域去耦;接收裝置,通過耦合和去耦光學器件檢測從測量區(qū)域去耦的測量輻射并且從檢測到的測量輻射生成輸出數(shù)據(jù);至少一個附加物理或化學傳感器,集成在探頭殼體中并且檢測測量介質(zhì)的被測變量并且將被測變量的值輸出作為測量信號;和電子測量單元,連接到接收裝置并且收集和處理接收裝置的輸出數(shù)據(jù),其中電子測量單元連接到附加物理或化學傳感器并且收集和處理附加物理或化學傳感器的測量信號。
聲明:
“用于分析測量介質(zhì)的測量設(shè)備和用于確定分析值的方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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