本發(fā)明提供了一種化學(xué)機(jī)械拋光墊,其包括:具有拋光表面的拋光層;以及廣譜終點(diǎn)檢測窗口塊體,其具有沿著垂直于所述拋光表面的平面的軸方向上的厚度;其中所述廣譜終點(diǎn)檢測窗口塊體包含環(huán)狀烯烴加成聚合物;其中所述廣譜終點(diǎn)檢測窗口塊體在其厚度上具有均勻的化學(xué)組成;其中所述廣譜終點(diǎn)檢測窗口塊體的光譜損失<40%;以及,其中所述拋光表面適合用于對選自磁性基材、光學(xué)基材和半導(dǎo)體基材的基材進(jìn)行拋光。
聲明:
“具有廣譜終點(diǎn)檢測窗口的化學(xué)機(jī)械拋光墊以及使用該拋光墊進(jìn)行拋光的方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)