本發(fā)明提供了一種多層化學機械拋光墊,其包括:拋光層,所述拋光層具有拋光表面、擴孔開口、與拋光表面平行的拋光層界面區(qū)域;多孔子墊層,該子墊層具有底表面以及平行于底表面的多孔子墊層界面區(qū)域;以及包含環(huán)狀烯烴加成聚合物的廣譜終點檢測窗口塊體;其中所述廣譜終點檢測窗口塊體在其厚度上具有均勻的化學組成;其中所述拋光層界面區(qū)域和多孔子墊層界面區(qū)域形成共延伸區(qū)域;其中,所述多層化學機械拋光墊具有從所述拋光表面延伸至所述多孔子墊層的底表面的貫穿開口;其中,所述擴孔開口開在所述拋光表面上,使所述貫穿開口擴大并形成階狀部分;以及其中,所述廣譜終點檢測窗口塊體設置在所述擴孔開口內。
聲明:
“具有廣譜終點檢測窗口的多層化學機械拋光墊” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯系該技術所有人。
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