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硅拋光片或外延片層錯(cuò)及位錯(cuò)缺陷的無損檢測(cè)裝置及方法

1053   編輯:管理員   來源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-19 08:57:56
本發(fā)明涉及硅片檢測(cè)技術(shù)領(lǐng)域,公開了硅拋光片或外延片層錯(cuò)及位錯(cuò)缺陷的無損檢測(cè)裝置,包括筒體,筒體通過三個(gè)隔板對(duì)稱設(shè)有三個(gè)放置區(qū),且三個(gè)隔板呈均勻分布設(shè)置,三個(gè)隔板相背離一側(cè)的側(cè)壁均與筒體的內(nèi)壁固定連接設(shè)置,筒體內(nèi)壁的中心處固定連接有圓筒,且圓筒的側(cè)壁分別與三個(gè)隔板的側(cè)壁固定連接設(shè)置,圓筒內(nèi)還設(shè)有放料機(jī)構(gòu),筒體的底部對(duì)稱固定連接有四個(gè)支撐腳,放料機(jī)構(gòu)包括放置盒、套筒和活動(dòng)桿,放置盒的底部開設(shè)有多個(gè)通孔,套筒位于圓筒內(nèi)設(shè)置,圓筒的內(nèi)壁對(duì)稱開設(shè)有三個(gè)凹槽。本發(fā)明能夠便于對(duì)硅片與各個(gè)溶液進(jìn)行反應(yīng),同時(shí)提高了反應(yīng)的效果,提高了工作效率,便于人們的使用。
聲明:
“硅拋光片或外延片層錯(cuò)及位錯(cuò)缺陷的無損檢測(cè)裝置及方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
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