本發(fā)明涉及在旋轉(zhuǎn)或舟形爐中,通過使用氫作為 還原劑,還原鉬酸銨或三氧化鉬得到的高純 MoO2粉末。將通過壓制/燒結(jié)、 熱壓和/或HIP進行的粉末固結(jié)用來制備圓盤、厚塊或板,該 圓盤、厚塊或板用作濺射靶。使用適宜的濺射方法或其它物理 方式將該MoO2圓盤、厚塊或板 形式濺射在基底上,從而提供具有期望膜厚的薄膜。就透射率、 導(dǎo)電率、功函數(shù)、均勻性以及表面糙度而言,該薄膜具有與氧 化銦錫(ITO)和摻鋅ITO可比或優(yōu)于其的性能如電的、光的、 表面粗糙度以及均勻性??蓪⒃?MoO2和含該 MoO2的薄膜用在有機發(fā)光二極 管(OLED)、液晶顯示器(LCD)、等離子體顯示板(PDP)、場致 發(fā)射顯示器(FED)、薄膜
太陽能電池、低電阻率歐姆接觸以及 其它電子和半導(dǎo)體器件中。
聲明:
“制備MoO2 粉末的方法、由MoO2粉末制備的產(chǎn)品、MoO2薄膜的沉積以及使用這種材料的方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)