本發(fā)明屬于集成光電子技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種用于高光譜成像的光學(xué)濾波片,其包括頂層布拉格反射鏡、中間介質(zhì)層、底層布拉格反射鏡和基底;所述布拉格反射鏡是法布里帕羅腔反射鏡,采用高折射率鈮酸鋰薄膜材料與低折射率氧化硅材料周期性排列形成;中間介質(zhì)層是法布里帕羅腔介質(zhì)材料,通過改變中間介質(zhì)層厚度(腔長)可實現(xiàn)多譜段濾波選擇。該結(jié)構(gòu)用于高光譜成像系統(tǒng),保證了在腔長改變或波長調(diào)諧過程中濾波譜型的最優(yōu)化,避免了可用波譜范圍縮減所導(dǎo)致的特征目標(biāo)無法識別的問題。
聲明:
“用于高光譜成像的光學(xué)濾波片” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)