一種圖案化立式
石墨烯及其制備方法,本發(fā)明采用鐵、鈷、鎳、鉬等材料作為基底,將掩模置于基底上以調(diào)控立式石墨烯的生長區(qū)域,最終得到圖案化立式石墨烯。本發(fā)明工藝簡單,有利于實現(xiàn)大規(guī)模生產(chǎn),便于推廣應(yīng)用;采用本發(fā)明方法制得的產(chǎn)品具有導(dǎo)電性好、比表面積大、
電化學(xué)穩(wěn)定性強等優(yōu)異性能,可廣泛應(yīng)用于超級電容器、鋰離子電池、
太陽能電池等新能源器件,也可適用于傳感器件、真空電子器件、電磁屏蔽等領(lǐng)域。
聲明:
“圖案化立式石墨烯及其制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)